円筒形ターゲット

ターゲットの形状は、従来までプレーナー(平板)タイプが一般的でしたが、スパッタリング装置が近年ロータリータイプ(円筒形)のターゲットを採用可能とした事で、当社も逸早く量産化を行ない、お客様の工程改善等に貢献しています。
また品質は平板タイプのターゲットと全く同等です。
現在製品化しているのはITOターゲットに加え、IGZOターゲットの量産化にも成功し、様々な組成のターゲットが提供可能です。

用途

フラットパネルディスプレイ、タッチパネル用途

特性値 ITO

  規格 単位 備考
組成 In2O3 balance wt.%
SnO2 3,5,7,10※1
純度 ITO ≧99.99 %
相対密度 ≧99.5 ※2 %

※1 スタンダード組成。その他の組成についても、ご要望に応じて対応させて頂きます。
※2 10wt%SnO2-ITO

特性値 IGZO

  規格 単位 備考
組成※1 In 1 at ratio
Ga 1
Zn 1
純度 IGZO ≧99.99 %
相対密度 ≥99.5 %

※1 In:Ga:Zn:O=1:1:1:4以外に、各種組成の製造が可能です。

生産拠点

日本:福岡県大牟田市大字唐船2081(三池ターゲット工場)
台湾:台中市梧棲區緯五路6號 (台湾特格股份有限公司)

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